一、多晶硅廢水來源

在光電、半導體產業中，需要將單質硅體切割成符合要求的硅片，目前多晶硅主要是采用多線切割技術因此在切割過程中需要不斷地排出舊切削液，在切割過程中約50% 的硅料混進由聚乙二醇( PEG) 切削液和碳化硅粉( SiC) 磨料組成的切削液中并不斷補充新切削液，這樣將就產生了大量的切割廢液。

二、多晶硅廢水特點

多晶硅生產過程中的廢水，主要為無機廢水，主要含有硅、氯、金屬離子等，一般鹽濃度較低，水量大，不具備直接蒸發結晶的條件，如實現零排放，需要采用聯合蒸發技術，則能夠降低設備投資，運營費用，并實現環保零排放的要求。

三、多晶硅廢水處理工藝

目前國內在多晶硅生產過程中一般可采用薄膜蒸發器，三效蒸發器和MVR蒸發器等設備用于處理鹽類廢水。它們都是利用蒸發濃縮的原理將廢水中的水蒸發出去，NaCl冷凝結晶出來以實現廢水的有效分離。

1、薄膜蒸發器工作原理

薄膜蒸發器是一種現代化的高效蒸發器，需要真空操作，通過旋轉的刮膜器強制成膜，并在高流速下進行流動。這種方法停留時間短，傳熱效率高。在此過程中，連續進料在加熱面被刮膜器持續不斷地刮成厚度均勻的液膜，隨之液膜向下移動，在向下流動的過程中殘留物從底部被排出，而低沸點的組分就會被蒸發出，進入大氣中。

2、三效蒸發器的工作原理

三效蒸發器采用串聯的方式。第一個蒸發器產生的二次蒸汽為利用其蒸發潛熱，將熱量引入到第二個蒸發器的入口處。第一個蒸發器的二次蒸汽冷凝處即為第二個蒸發器的進口加熱處。只要控制好各蒸發器的壓力分配，即可實現這種操作。通入加熱蒸汽的第一個蒸發器為一效，二次蒸汽通入的第一個蒸發器為二效，依次下一次二次蒸汽通入的蒸發器為三效。

3、MVR蒸發器工作原理

機械蒸汽再壓縮技術（Mechanical Vapor Recompression，以下簡稱“MVR")是在微真空狀態下通過機械驅動的壓縮機將蒸發器產生的二次蒸汽壓縮至較高壓力提高其品質，二次蒸汽進入蒸發器循環將待處理溶液或廢水進行低溫蒸發處理，其核心是利用系統產生的二次蒸汽的潛熱進行加熱，蒸發回收水資源，實現熱量的循環利用。內置式MVR裝置是將蒸汽壓縮裝置設置在蒸發室內部，集成設計為一體化設備，減少了占地面積和投資成本。該技術主要用于化工、食品、制藥、海水淡化等領域的含鹽廢水處理，不僅能回收水資源，而且結合后續結晶處理可實現廢水零排放。

多晶硅生產的廢水零排放將成為必然，可以通過膜濃縮預處理，結合蒸發工藝（如：機械蒸汽再壓縮蒸發、多效蒸發等），根據水質要求，聯合離子交換吸附，將能夠較為經濟的實現廢水零排放。